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對乙酰氧基苯乙烯
對乙酰氧基苯乙烯


英文名稱:(4-ethenylphenyl) acetate
芳香族化合物 化學藥物

CAS :   2628-16-2 精確質量 :   162.06800
分子式 :   C10H10O2 logP :   2.25490
分子量 :   162.18500 PSA :   26.30000

中文名稱:
4-乙酰氧基苯乙烯
中文別名:
4-乙烯基苯基乙酸酯;
對乙酰氧基苯乙烯;
乙酸-4-乙烯基苯基酯;
英文名稱:
(4-ethenylphenyl) acetate
英文別名:
Acetic Acid 4-Vinylphenyl Ester;
para-acetoxystyrene;
4-OAc-C6H4CH=CH2;
4-Acetoxystyrene;
Phenol,4-ethenyl-,acetate;
4-乙酰氧基苯乙烯可用于合成作為光致抗蝕劑(光刻膠)主要成分的聚對羥基苯乙烯。聚對羥基苯乙烯系列的化學增幅型光致抗蝕劑是目前國際上主流的光致抗蝕劑產品,是用于處理光蝕刻集成電路、制造芯片的關鍵技術之一。光蝕刻技術由生產0.3~0.28μm線寬,發展到改用深紫外光(波長248nm)生產0.18μm線寬,更可通過超深紫外光(波長193nm)刻畫線寬達0.11μm的微細回路。248nm光刻膠通常采用聚對羥基苯乙烯衍生物為成膜樹脂,芳基碘鎓鹽或硫鎓鹽作為光致產酸劑,運用化學增幅技術,在光作用下光致酸發生劑釋放出酸,然后酸催化使聚合物交聯(負膠)或發生脫保反應(正膠),從而使感光靈敏度極大地提高。


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